国产光刻机再突破!哈工大扛大旗,狠抽ASML脸
五、战局研判:基础学科重构框架,东大智慧震撼寰宇
此轮光刻大捷,其深远意义远超技术本身:
换道超车典范: 当传统路径被炮火封锁,东大科学家以深厚基础学科功底(物理、材料、精密机械)重构技术框架。哈工大DPP路线绕过ASML专利高墙,即是明证!此非追赶,乃另辟维度之“升维打击”!
速度碾压预期: 从光源突破到28nm量产,东大进展较西方预估快至少5年! 哈工大三年走完ASML十年路的“中国速度”,令封锁者绝望。ASML总裁哀叹“封锁助推中国创新”,实为败局自白!
生态链觉醒: 设备(上微)、材料(禁运反制)、设计(中芯、华为)、代工(中芯)全链共振,“东大芯”生态正以惊人速度闭环。台积电所谓“2nm+5nm+7nm封装”的权宜之计,难掩其面对东大全链崛起的战略焦虑!